Beschichtungs-technologien

ARC-Technologie

Lichtbogenverdampfung
Gängige Art der Beschichtung von Zerspanungs- und Umformwerkzeugen
Zum ARCen werden in erster Linie leitende Materialien wie Metalle als Targets verwendet
Hoher Ionisationsgrad
Exzellente Haftung
Hohe Abscheiderate
Droplets erhöhen Oberflächenrauheit

SPUTTER-Technologie

Kathodenzerstäubung
Gängig für Dekorativbeschichtungen und Mikrowerkzeuge
Auch Targets mit niedriger Wärmeleitfähigkeit können gesputtert werden, wie z.B. reine Keramiken
Niedriger Ionisationsgrad
Verbesserte Haftung durch SCIL® (SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge) oder durch PLATIT-3D-Modul
Hohe Abscheiderate durch SCIL®
Glatte Oberfläche

ARC vs. SPUTTER-Beschichtungstechnologie

Hybrid-LACS®-Technologie

Simultane ARC- und SPUTTER-Prozesse vereinen die Vorteile von LARC®-Kathoden mit denen des zentralen SPUTTERING SCIL®

Hybrid-LACS® (LAteral ARC with Central SPUTTERING):

Hohe Ionendichte, exzellente Haftung
Hohe Abscheideraten
Einführung von "neuen" Materialien durch das SPUTTERING von Keramiken
Glattere Schichten

Hybrid-Beschichtungstechnologie mit ARC- und SPUTTER-Prozessen

LARC®-Kathode
LARC®-Kathode
LARC®-Kathode
Shutter
SCIL®-Kathode
Tür
Kammer
Pumpe
ARC-Stromquelle
ARC-Stromquelle
LGD® gepulste Quelle
ARC-Stromquelle
BIAS-Quelle

Hochionisiertes Plasma durch LGD®-Elektronenstrom von der Kathode (3) zur Anode (2).

Kathodenzerstäubungs-Abscheidung durch SCIL® in einem hoch ionisierten Plasma.

In der Anlage Pi411 können zwei unterschiedliche Arten dieser Hybrid-Technologie angewandt werden

1. Gleichzeitiges Ablaufen von LGD® und SCIL®

Lateral Glow Discharge und SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

Zur Erhöhung von Ionendichte und Beeinflussung von Schichteigenschaften der SPUTTER-Schichten

2. Gleichzeitiges Ablaufen von LARC® und SCIL®

ARC-Verdampfung mit LAteral Rotating Cathode und Kathodenzerstäubung mit SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

Zur gezielten Dotierung von Schichtkomponenten