Beschichtungs-technologien

ARC-Technologie

Lichtbogenverdampfung
Gängige Art der Beschichtung von Zerspanungswerkzeugen
Zum ARCen werden in erster Linie leitende Materialien wie Metalle als Targets verwendet
Hoher Ionisationsgrad
Exzellente Haftung
Hohe Abscheiderate
Droplets erhöhen Oberflächenrauheit

SPUTTER-Technologie

Kathodenzerstäubung
Gängig für Dekorativbeschichtungen und Mikrowerkzeuge
Auch Targets mit niedriger Wärmeleitfähigkeit können gesputtert werden, wie z.B. reine Keramiken
Niedriger Ionisationsgrad
Verbesserte Haftung durch SCIL® (SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge) oder durch PLATIT-3D-Modul
Hohe Abscheiderate durch SCIL®
Glatte Oberfläche

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Hybrid-LACS®-Technologie

Simultane ARC- und SPUTTER-Prozesse vereinen die Vorteile von LARC®-Kathoden mit denen des zentralen SPUTTERING SCIL®

Hybrid-LACS® (LAteral ARC with Central SPUTTERING):

Hohe Ionendichte, exzellente Haftung
Hohe Abscheideraten
Einführung von "neuen" Materialien durch das SPUTTERING von Keramiken
Glattere Schichten

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LARC®-Kathode
LARC®-Kathode
LARC®-Kathode
Shutter
SCIL®-Kathode
Tür
Kammer
Pumpe
ARC-Stromquelle
ARC-Stromquelle
LGD® gepulste Quelle
ARC-Stromquelle
BIAS-Quelle

Hochionisiertes Plasma durch LGD®-Elektronenstrom von der Kathode (3) zur Anode (2).

Kathodenzerstäubungs-Abscheidung durch SCIL® in einem hoch ionisierten Plasma.

In der Anlage Pi411 können zwei unterschiedliche Arten dieser Hybrid-Technologie angewandt werden

1. Gleichzeitiges Ablaufen von LGD® und SCIL®

Lateral Glow Discharge und SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

Zur Erhöhung von Ionendichte und Beeinflussung von Schichteigenschaften der SPUTTER-Schichten

2. Gleichzeitiges Ablaufen von LARC® und SCIL®

ARC-Verdampfung mit LAteral Rotating Cathode und Kathodenzerstäubung mit SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

Zur gezielten Dotierung von Schichtkomponenten