Hybrid-LACS® (LAteral ARC with Central SPUTTERING):

  • Hohe Ionendichte, exzellente Haftung
  • Hohe Abscheideraten
  • Einführung von "neuen" Materialien durch das SPUTTERING von Keramiken
  • Glattere Schichten
In der Anlage Pi411 können zwei unterschiedliche Arten dieser Hybrid-Technologie angewandt werden

1. Gleichzeitiger Ablauf von LGD® und SCIL®

Lateral Glow Discharge und SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

  • Zur Erhöhung von Ionendichte und Beeinflussung von Schichteigenschaften der SPUTTER-Schichten

1 - 3: LARC®-Kathode
4: SCIL®-Kathode

Gleichzeitiger Ablauf von Ätzen und Sputtern

2. Gleichzeitiger Ablauf von LARC® und SCIL®

ARC-Verdampfung mit LAteral Rotating Cathode und Kathodenzerstäubung mit SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge

  • Zur gezielten Dotierung von Schichtkomponenten

1 - 3: LARC®-Kathode
4: SCIL®-Kathode

Gleichzeitiger Ablauf von Arcen und Sputtern

Erfahren Sie mehr im Fachartikel "Hybrid-Beschichtung für Zerspanung".

Diese Webseite verwendet Cookies, um Ihnen den bestmöglichen Service zu gewährleisten. Wenn Sie auf der Seite weitersurfen, stimmen Sie der Cookie-Nutzung zu.

Ich stimme zu.