Technologia ARCO

  • Modo comune per rivestire gli utensili da taglio
  • Con la tecnologia ARCO, i materiali conduttivi prima di tutto come i metalli vengono utilizzati come target
  • Elevato grado di ionizzazione
  • Eccellente adesione
  • Elevato tasso di deposizione
  • Le goccioline aumentano la rugosità della superficie

Technologia SPUTTER

  • Comune per rivestimenti decorativi e microutensili
  • I target con bassa conducibilità termica, come la ceramica pura, possono anche essere soggetti a SPUTTER
  • Basso grado di ionizzazione
  • Miglior adesione tramite SCIL® (SPUTTERED Coating Induced by Lateral Glow Discharge) o tramite il modulo 3D di PLATIT
  • Elevato tasso di deposizione grazie a SCIL®
  • Superficie liscia
ARC vs. SPUTTER tecnologie di rivestimento

Tecnologia LACS® ibrida

Processi simultanei ARCO e SPUTTER per combinare i vantaggi dei catodi rotanti LARC® con quelli dello SPUTTERING SCIL® centrale

LACS® ibrido (arco laterale con SPUTTERING centrale):

  • Alta densità di ioni, eccellente adesione
  • Elevati tassi di deposizione
  • Introduzione di "nuovi" materiali attraverso lo SPUTTERING della ceramica
  • Rivestimenti più lisci
Tecnologia di rivestimento LACS ibrida
  1. Catodo LARC®
  2. Catodo LARC®
  3. Catodo LARC®
  4. Schermi
  5. Catodo SCIL®
  6. Porta
  7. Camera
  8. Pompaggio
  9. Sorgente corrente ARC
  10. Sorgente corrente ARC
  11. Sorgente pulsata LGD®
  12. Sorgente corrente ARC
  13. Sorgente BIAS

Plasma ad alta ionizzazione mediante flusso di elettroni LGD® (corrente) dal catodo (3) all'anodo (2).

Deposizione SPUTTERING tramite SCIL® in plasma ad elevata ionizzazione.

Nell'unità di rivestimento Pi411 possono essere applicati due diversi tipi di questa tecnologia ibrida

1. Deposizione simultanea di LGD® e SCIL®

Lateral Glow Discharge e SPUTTERED Coating indotto da Lateral Glow Discharge

  • Per aumentare la densità ionica e influenzare le proprietà di rivestimento dei rivestimenti SPUTTER

2. Deposizione simultanea di LARC® e SCIL®

Evaporazione ARCO con Catodo Rotante Laterale (LARC®) e rivestimento SPUTTERED indotto da Lateral Glow Discharge

  • Per il doping mirato dei componenti del rivestimento