什么是涂层

涂层是保护性的薄膜,在以下方面改善基材的表面性能:

  • 硬度
  • 抗氧化性能
  • 摩擦系数
  • 断裂韧性
  • 化学稳定性
最终提高了基材的使用寿命,改善了加工工艺参数。
例如,刀具涂层可以提高切削速度/进给量,以较低的成本提高刀具的生产率。

涂层工艺过程

1

进炉

装载涂层腔室

2

抽真空

在沉积PVD涂层时需要高真空。

涂层系统的抽真空过程分两个步骤进行:

  • 旋片泵将真空腔室压力从100 mbar 抽到 10 -2 mbar
  • 涡轮分子泵产生约1 x 10 -5 mbar 的高真空

3

加热

加热腔室,工艺温度约为150 - 500℃

4

等离子体刻蚀

PLATIT的涂层系统采用三种不同的蚀刻工艺一起工作:

  •  LGD®(侧向辉光放电)
  • 氩气等离子体刻蚀,辉光放电
  • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

5

沉积涂层

采用 PVD (电弧、磁控溅射或 混镀LACS®技术) 或 PECVD 工艺过程进行涂层沉积

6

冷却

冷却涂层腔室

7

出炉

涂层腔室卸载

LGD® 刻蚀

LGD®(侧向辉光放电)是PLATIT涂层系统的专利蚀刻工艺

刻蚀发生在涂层过程之前,在LGD®过程中,两个阴极之间的电子流会产生高密度等离子体,这可以有效刻蚀复杂的表面和型腔,以及切削刃和刃尖(如滚刀和模具)。

档板:

  • 通过点燃在挡板后面的靶材表面来清洁靶材,不会污染工具
  • 在靶材清洗后开启挡板,为最佳结合力的获得创造了理想的条件
LGD 刻蚀技术

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