PL1011

PL1011 G4代表了PLATIT下一代强大的PVD涂层设备,它针对的是那些寻求工艺可靠性、高品质涂层和单支刀具涂层成本低的客户。它的新设计体现了变革和现代化:更简洁的结构易于更好的服务;新的技术特点如等离子氮化和双脉冲选项,改善了涂层的性能并为各种应用提供不同的工艺程序。

PL1011 G4作为每一个高容量涂层中心的生产主力,最大程度地将生产可用性与用户友好界面以及高效的维护理念相结合。它配备了四个平面阴极,利用最新的ARC技术,以始终如一的高质量沉积所有PLATIT标准涂层。

运用到的技术:

  • 4支平面阴极,运用电弧技术沉积涂层

运用到的刻蚀技术:

  • LGD® (侧向辉光放电)
  • Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
  • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

装载和运行周期:

  • 最大涂层区域 [mm]:ø715 x H805
  • 获得均匀涂层厚度的最大涂层高度:711mm
  • 最大载重:400kg
  • 3-4 炉/天

转车系统模式:

  • 1-12轴转车

软件:

  • 带触摸屏的PLATIT智能软件 (PC和PLC系统)
  • 通过用户界面提供统计和帮助功能
  • 工艺参数和流程的数据记录以及实时显示
  • 手动和自动的过程控制
  • 远程诊断和维护
  • 新设计的工艺编辑器

设备尺寸:

  • 外观尺寸 [mm]:W4000 x D2250 x H2350
  • 双脉冲选项的设备外观尺寸 [mm]:W4700 x D2250 x H2350

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