Pi1511

Pi1511是一台大容量的PVD涂层设备。它在门上配置了三支旋转的PLATIT LARC®XL阴极,在腔室后方配置两支平面电弧阴极。柱状阴极与高性能平面阴极的结合,使沉积的PLATIT特征涂层具有高度的灵活性。LARC®XL阴极具有很长的使用寿命,从而保证了单支刀具上的低涂层成本。

运用到的技术:

  • 在门上的3 支 LARC® XL (侧向旋转超长阴极) 和在腔室后方的2 支 平面电弧阴极
  • 用于磁场自动调节的 MAC-3C 磁弧约束-线圈电流补偿
  • 快速靶材更换
  • 沉积PLATIT特征涂层

运用到的刻蚀技术:

  • LGD® (侧向辉光放电)
  • Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
  • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

装载和运行周期:

  • 最大涂层区域 [mm]:ø715 x H805
  • 获得均匀涂层厚度的最大涂层高度:711mm
  • 最大载重:400kg
  • 3 炉/天

转车系统模式:

  • 1-12轴转车

软件:

  • 使用和维护简单
  • PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
  • 现代化的触摸屏控制系统
  • 通过用户界面的统计和帮助功能
  • 工艺参数和流程的数据记录以及实时显示
  • 手动和自动的过程控制
  • 远程诊断和维护

设备尺寸:

  • 外观尺寸 [mm]:W4900 x D2200 x H2450

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