Il video, a partire dal minuto 17:33, spiega il processo in modo più dettagliato.
Processo di etching LGD per rivestimento PVD
LGD sta per Lateral Glow Discharge, il processo di etching brevettato per le nostre unità di rivestimento PVD.
Oltre ai bordi taglienti (ad esempio, di rullatrici, punzoni e matrici), con l'LGD è possibile raggiungere anche superfici e cavità complesse, poiché il flusso di elettroni tra due catodi crea un plasma con un'alta densità di ioni nell'unità rotante.
L'LGD presenta in particolare i seguenti vantaggi:
- Basso "effetto antenna" grazie alla bassa tensione di polarizzazione
- Aumento della distanza media di diffusione
- Migliore penetrazione dell’etching, il che conduce a un etching migliore nelle scanalature
Utilizzo di uno schermo
Uno schermo copre i target per isolarli dal plasma nella camera. In questo modo i target possono essere trattati separatamente:
- I target vengono puliti accendendo un ARCO dietro lo schermo sulla superficie del target senza contaminare gli strumenti.
- Lo schermo viene aperto solo dopo che il target è stato pulito, il che fornisce le condizioni ideali per un'adesione ottimale del rivestimento e consente di utilizzare materiale puro e non contaminato per il rivestimento stesso.
L'indicatore 3D etch
Il nostro indicatore 3D etch brevettato è un metodo per esaminare visivamente e quantificare l'efficienza del plasma etching.
Questo metodo ottimizza lo sviluppo di processi e parametri dedicati per utensili a gambo, utensili da taglio per ingranaggi, matrici o anche per geometrie complesse.
- Fornisce un profilo 3D dell'effetto di plasma etching
- Previene un etching troppo debole o troppo forte
- Migliora le prestazioni dei rivestimenti in applicazioni mirate
Scala dei colori di interferenza da [1] Antończak, A. J., et al. (2014). L'influenza dei parametri di processo sulla colorazione indotta dal laser del titanio. Applied Physics A, 115(3),1003 - 1013
Per generare un profilo di etching a 3D, i campioni vengono prima rivestiti con strati che riflettono uniformemente un solo colore di interferenza (ad esempio, il blu). Successivamente, questi campioni vengono sottoposti a un processo di plasma etching con un periodo di tempo definito.
Poiché il colore di interferenza di un rivestimento è direttamente correlato al suo spessore, il colore risultante in qualsiasi punto della superficie può essere utilizzato per determinare l'effetto di etching in quel particolare punto con un'elevata risoluzione (±5nm). L'indicatore 3D etch di PLATIT consente quindi di selezionare la giusta combinazione di parametri di etching e garantisce che la strategia di etching selezionata si traduca in una rimozione ottimale del materiale dalla superficie.
Mentre di solito sono possibili solo misurazioni 1D o 2D del plasma etching e l'ottimizzazione richiede un test dell'utensile separato per ogni singolo set di parametri, con l'aiuto dell'indicatore 3D etch, l'effetto dell'etching è già visibile a occhio nudo subito dopo il test del plasma etching.
Il diagramma mostra il risultato dell'ottimizzazione mirata del plasma etching sui microutensili. Rispetto all'etching standard comunemente utilizzato, nel caso dell'etching 3D è stato osservato un grado di altezza della bava molto inferiore.
Desiderate saperne di più?
Ulteriori informazioni sono disponibili anche qui (cliccare per aprire):