PLATIT Pi1511 – 技术领先的涂层设备
Pi1511是一台大容量的PVD涂层设备。它在门上配置了三支旋转的PLATIT LARC®XL阴极，在腔室后方配置两支平面电弧阴极。
柱状阴极与高性能平面阴极的结合，使沉积的PLATIT特征涂层具有高度的灵活性。LARC®XL阴极具有很长的使用寿命，从而保证了单支刀具上的低涂层成本。
技术
- 在门上的3 支 LARC® XL (侧向旋转超长阴极)
- 在腔室后方的2 支 平面阴极用于电弧涂层
- 用于磁场自动调节的MAC-3C(磁弧约束-线圈电流补偿
- 快速阴极更换
- 沉积选择的PLATIT代表性涂层
运用到的刻蚀技术
几种蚀刻技术都可在Pi1511涂层设备使用，各具优点：
- LGD® (侧向辉光放电)
- Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
- 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
装载和运行周期
- 最大涂层区域：ø 715 x H 805 mm
- 获得指定涂层厚度的最大涂层高度：711 mm
- 最大载重：750 kg，根据要求增加载重
- 最高3炉/天
模块化转车系统
- 1-12轴转车
软件
- PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
- 使用和维护简单
- 现代化的用户界面，触摸屏菜单导航
- 实时流程可视化，包括数据记录和数据管理
- 手动和自动的过程控制
- 远程诊断和维护
设备尺寸
- 外观尺寸：5000 x 2200 x 2500mm (宽×深×高)