Pi1511是一台大容量的PVD涂层设备。它在门上配置了三支旋转的PLATIT LARC®XL阴极,在腔室后方配置两支平面电弧阴极。
柱状阴极与高性能平面阴极的结合,使沉积的PLATIT特征涂层具有高度的灵活性。LARC®XL阴极具有很长的使用寿命,从而保证了单支刀具上的低涂层成本。
技术
- 在门上的3 支 LARC® XL (侧向旋转超长阴极)
- 在腔室后方的2 支 平面阴极用于电弧涂层
- 用于磁场自动调节的MAC-3C(磁弧约束-线圈电流补偿
- 快速阴极更换
- 沉积选择的PLATIT代表性涂层
运用到的刻蚀技术
几种蚀刻技术都可在Pi1511涂层设备使用,各具优点:
- LGD® (侧向辉光放电)
- Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
- 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
装载和运行周期
- 最大涂层区域:ø 715 x H 805 mm
- 获得指定涂层厚度的最大涂层高度:711 mm
- 最大载重:750 kg
- 最高3炉/天