PLATIT PL1011 G4 – 最大的产能

PLATIT的PL1011 G4发展至今已经是第四代稳健的PVD涂层设备。如果您重视工艺可靠性和高质量的PVD涂层,同时力求降低单支刀具的涂层成本,它可以提供完美的解决方案。

新设计在几个方面都有巨大的飞跃。更简单的设计使维护更容易,新的技术特征,如等离子体氮化和双脉冲选项,改善了涂层性能和工艺,适用于广泛的应用。

PL1011 G4是每个大容量涂层中心的生产主力,并将最大的生产可用性与用户友好的应用和维护理念相结合。它有四支平面阴极,采用最先进的电弧涂层技术,可以沉积所有PLATIT标准涂层品质优良重复性高。

技术

  • 4支平面阴极,运用电弧技术沉积涂层
  • 双脉冲功能
  • 等离子体氮化功能

运用到的刻蚀技术

几种蚀刻技术都可在PLATIT PL1011 G4涂层设备使用,各具优点:

  • LGD® (侧向辉光放电)
  • Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
  • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

装载和运行周期

  • 最大涂层区域:ø 715 x H 805 mm
  • 获得指定涂层厚度的最大涂层高度:711 mm
  • 最大载重:750 kg (按要求增加载重)
  • 最高3-4炉/天

模块化转车系统

  • 1-12轴转车

软件

  • PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
  • 使用和维护简单
  • 现代化的用户界面,触摸屏菜单导航
  • 实时流程可视化,包括数据记录和数据管理
  • 手动和自动的过程控制
  • 远程诊断和维护
  • 新开发的工艺编辑器

设备尺寸

  • 外观尺寸:4000 x 2250 x 2350mm (宽×深×高)
  • 双脉冲选项的外观尺寸:4700 x 2250 x 2350mm (宽×深×高)

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